kashiyama 真空技术与应用
KASHIYAMA工业株式会社，多年来致力于真空技术的研究，不断开发进取，在半导体制造领域和高科技行业中拥有极高的信誉。尤其在半导体制造领域，获得了客户的高度评价与信赖。KASHIYAMA工业的干式真空泵系列已经成为半导体制造业与液晶显示制造行业的标准设备。除此之外，鲁式及排气组合式真空泵设备则在其他领域得到广泛应用。
Harsh Process ( SDE系列 )
· 适用于所有的制程，耐久、耐腐蚀。
Light process ( MU-X&MU-P/H系列)
· 同时实现了节能、轻量化，是目前世界上同等级罗茨泵中最节能的系列。
· 节能、小型、轻量，可以嵌入到各种设备中。
· 除了节能、轻量的MU-X系列以外，还有可以对应一部分工艺的MU-P系列。
· 大排气量
SDE&SDL系列
· 适用于半导体、液晶面板等行业的大排气量干泵。严苛制程上为SDE系列，轻制程上为SDL系列。
NeoDry系列
· 追求减低整体成本的一款空冷式真空泵。
· 不需要循环冷却水，面向一般产业、分析、研究开发等行业。
SDE 系列
NeoDry 系列
SDL 系列
MU-X & MU-P/H 系列
NeoDry系列 小型・风冷・干式真空泵
NeoDry系列
|
型号 |
最大排气速度(L/min) |
极限压力（Pa） |
|---|---|---|
|
NeoDry7E |
110 |
5.0 |
|
NeoDry15E |
250 |
1.0 |
|
NeoDry30E |
500 |
1.0 |
|
NeoDry36E |
600 |
1.0 |
|
NeoDry60E |
1,000 |
2.0 |
|
Neodry100E |
1,670 |
2.0 |
|
NeoDry300E |
,000 |
0.3 |
MU-X(P/H)系列 低耗能0.35kw・省空间・Harsh Process(P/H)
MU-X（ P/H )系列
|
型号 |
最大排气速度(L/min) |
极限压力（Pa） |
|---|---|---|
|
MU100 X（ P/H ) |
1,660 |
3.0 |
|
MU180 X（ P/H ) |
3,000 |
5.0 |
|
MU300 X（ P/H ) |
5,000 |
0.5 |
|
MU600 X（ P/H ) |
10,000 |
0.5 |
|
MU1218 X（ P/H ) |
20,000 |
0.5 |
|
MU20N18 X（ P/H ) |
30,000 |
0.5 |
|
MU30N18 X（ P/H ) |
50,000 |
0.5 |
SDE系列 Harsh Process・节能・大排气量
SDE系列
|
型号 |
最大排气速度(L/min) |
极限压力（Pa） |
|---|---|---|
|
SDE90X |
1,300 |
1.3 |
|
SDE120TX |
1,500 |
1.3 |
|
SDE200 |
3,300 |
1.3 |
|
SDE303X |
5,000 |
0.5 |
|
SDE603X |
10,000 |
0.5 |
|
SDE1203TX |
20,000 |
0.5 |
|
SDE20N12TX |
30,000 |
0.5 |
|
SDE30N20 |
50,000 |
0.5 |
|
SDE60N20 |
100,000 |
0.5 |
SDL系列 快节奏排气・大排气量
SDL系列
|
型号 |
最大排气速度(L/min) |
极限压力（Pa） |
|---|---|---|
|
SDL12E50/60 |
25,000 |
0.8 |
|
SDL20E60 |
40,000 |
0.8 |
|
SDL36E60 |
60,000 |
0.8 |
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