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Diener 等离子清洗机 Zepto W6

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Diener 等离子清洗机 Zepto W6

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产品编号
000003
所属分类
产品中心
数量
-
+
库存:
0
技术应用链接:

特点:

· 低压等离子系统,用于不同材料表面的处理

· 配置自动/手动模式,实现控制高机能

· 6” Wafer去胶清洗

· 适合于研究院、高校、研发中心使用

· 操作简单易使用

 

 

技术规格:

型号

ZEPTO W6

ZEPTO W6 PCCE

控制系统

手动控制

PCCE 控制系统

工艺气路

双路气体

工艺气体

O2ArN2CO2H2Air

单体导入

H2O等单体(选配)

流量计

针阀流量计

MFC流量计

真空

腔体

材质

高硼硅玻璃腔体,盖子门带观察窗(石英,铰链门选配)

内尺寸(Dia.×D)mm

160mm×180mm

容积

4L

电极

360度外置环绕电极

发生器

 

40KHz     0~100 W

13.56MHz  0~50 W

13.56MHz  0~300 W

真空压力计

指针式压力计(选购)

皮拉尼数字式压力计

计时器

旋钮式(选购)

数字式

托盘

高硼硅玻璃(石英选配)

外形尺寸(WXDxHmm

269x324x176(40kHz)

425x450x185(13.56MHz)

电源

AC220V 50Hz 10A

真空泵

排气速度4m3/H

 

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