技术应用链接:
特点:
· 低压等离子系统,用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式,实现控制高机能
· 6” Wafer去胶清洗
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· 操作简单易使用
技术规格:
型号 |
ZEPTO W6 |
ZEPTO W6 PCCE |
||
控制系统 |
手动控制 |
PCCE 控制系统 |
||
工艺气路 |
双路气体 |
|||
工艺气体 |
O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 |
|||
单体导入 |
H2O等单体(选配) |
|||
流量计 |
针阀流量计 |
MFC流量计 |
||
真空 腔体 |
材质 |
高硼硅玻璃腔体,盖子门带观察窗(石英,铰链门选配) |
||
内尺寸(Dia.×D)mm |
160mm×180mm |
|||
容积 |
4L |
|||
电极 |
360度外置环绕电极 |
|||
发生器
|
40KHz 0~100 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W |
|||
真空压力计 |
指针式压力计(选购) |
皮拉尼数字式压力计 |
||
计时器 |
旋钮式(选购) |
数字式 |
||
托盘 |
高硼硅玻璃(石英选配) |
|||
外形尺寸(WXDxH)mm |
269x324x176(40kHz) |
425x450x185(13.56MHz) |
||
电源 |
AC220V 50Hz 10A |
|||
真空泵 |
排气速度4m3/H |
友情链接:尔迪kashiyama真空泵 尔迪仪器网
上海尔迪仪器科技有限公司
微信公众号
企业微信