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用途●高分子材料表面的官能基付与粘合性、密着性提高。通过氧化反应,在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能基(微量的水分及二氧化碳影响)。同样在氮气等离子体中,氮原子被吸收在表面中,生成-NH2等官能基。●硅晶圆蚀刻。●材料表面改性(金属、聚合物、薄膜、陶瓷等)。●石棉预处理(膜过滤灰化)。●从电子设备到生化市场。●低温灰化(高分子材料、煤炭、食品等)。●使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。●表面有机物去除。特点●RF为200W的高性能输出类型(PR200)。●由于是尺寸紧凑的台式机,很小的位置都可以安装。●同步,自动调谐,操作简单(PR200)。●等离子体反应器(灰化设备)(PR200)。●同步、自动调谐(PR200)。
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