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用途●高分子材料表面的官能基付与粘合性、密着性提高。通过氧化反应，在表面生成-OH，＞C=O，-COOH等官能基（微量的水分及二氧化碳影响）。同样在氮气等离子体中，氮原子被吸收在表面中，生成-NH2等官能基。●硅晶圆蚀刻。●材料表面改性（金属、聚合物、薄膜、陶瓷等）。●石棉预处理（膜过滤灰化）。●从电子设备到生化市场。●低温灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。●使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。●表面有机物去除。特点●RF为200W的高性能输出类型（PR200）。●由于是尺寸紧凑的台式机，很小的位置都可以安装。●同步，自动调谐，操作简单（PR200）。●等离子体反应器（灰化设备）（PR200）。●同步、自动调谐（PR200）。
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