技术应用链接:
特点：
· 低压等离子系统，用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式，实现控制高机能
· 6” Wafer去胶清洗
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· 操作简单易使用
技术规格：
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型号 |
ZEPTO W6 |
ZEPTO W6 PCCE |
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控制系统 |
手动控制 |
PCCE 控制系统 |
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工艺气路 |
双路气体 |
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工艺气体 |
O2，Ar，N2，CO2，H2，Air等 |
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单体导入 |
H2O等单体（选配） |
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流量计 |
针阀流量计 |
MFC流量计 |
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真空 腔体 |
材质 |
高硼硅玻璃腔体，盖子门带观察窗(石英，铰链门选配) |
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内尺寸(Dia.×D)mm |
160mm×180mm |
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容积 |
4L |
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电极 |
360度外置环绕电极 |
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发生器
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40KHz 0~100 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W |
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真空压力计 |
指针式压力计（选购） |
皮拉尼数字式压力计 |
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计时器 |
旋钮式（选购） |
数字式 |
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托盘 |
高硼硅玻璃（石英选配） |
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外形尺寸（WXDxH）mm |
269x324x176(40kHz) |
425x450x185(13.56MHz) |
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电源 |
AC220V 50Hz 10A |
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真空泵 |
排气速度4m3/H |
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上海尔迪仪器科技有限公司
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