技术应用链接:
特点：
· 低压等离子系统，用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式，实现控制高机能
· 4” Wafer去胶清洗
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· 操作简单易使用
技术规格：
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型号 |
PICO |
PICO PCCE |
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控制系统 |
手动控制 |
PCCE 控制系统 |
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工艺气路 |
双路或三路气体 |
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工艺气体 |
O2，Ar，N2，CO2，H2，Air等非腐蚀性气体或者CF4 、SF6等腐蚀性气体 |
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单体导入 |
H2O，亲疏水涂层等单体（选配） |
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流量计 |
针阀流量计（防腐蚀） |
MFC流量计（防腐蚀） |
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真空 腔体 |
材质 |
高硼硅玻璃/石英 盖子门/铰链门带观察窗 |
不锈钢 盖子门/铰链门带观察窗 |
铝合金 铰链门 |
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圆形腔体内尺寸(Φ×D)mm |
150×320(600) *1 |
130×300( 600) *1 |
— |
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方形腔体内尺寸 （W×D×H）mm |
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160×325( 600) *1×160mm |
150×325（600）*1×160 |
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容积 |
5.6L~10.6L |
8L~15L |
7.8L~14L |
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电极 |
360度外置环绕电极 |
平行平板电极 |
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发生器*
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40 kHz 0-200W 100 kHz 0-500W 13.56 MHz 0-50W 或者 0-100W 或者0-300W 2.45 GHz 0-300W |
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真空压力计 |
指针式压力计 |
皮拉尼数字式压力计 |
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计时器 |
模拟数字式 |
数字式 |
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托盘 |
高硼硅玻璃，石英，不锈钢，铝合金 |
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外形尺寸（WXDxH）mm |
560x600-750x460-860mm |
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电源 |
AC220V 50Hz 10A |
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真空泵 |
排气速度不小于8m3/H |
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