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等离子清洗机 V

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等离子清洗机 V

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使用等离子的表面处理装置。着重于"使用简单"的台式高性能型号,调取数据简单,以电子材料为中心,可对应多种用途。

特征
● 可变更电极构造提高等离子效果。
● 搭载高精度适配器,高性能RF 电源。
● 可根据需求规格提供定制。

用途
● 硅晶圆的灰化及蚀刻
● 基板表面污垢处理
● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理
● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有机物去除
● 界面活性处理
● 表面污染物去除

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型号

V1000

V1000X

V1000XS

等离子模式

DP/RIE

高频电源

13.56MHz

输出功率

Max1000W

Max1000 & 1500W

有效电极尺寸

W280×D280mm

W300×D300mm

W400×D375mm

电极

平行平板

2段电极(独立)

平板(多目的)

反应气体

聚合控制器2系统(填充气路另行安装)

真空泵(标配)

约1000L/min

约1500L/min

1000 & 1500L/min

安全装置

门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等

 

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