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低压等离子技术和常压等离子技术的区别

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低压等离子技术和常压等离子技术的区别

  • 分类:新闻资讯
  • 作者:等离子表面处理仪
  • 来源:www.verdegroup.cn
  • 发布时间:2021-09-27 15:36

低压等离子技术和常压等离子技术的区别

更多详细资料,可联系上海尔迪仪器科技有限公司,拨打电话021-61552797!!

 

 

等离子设备可以分成低压等离子系统和常压等离子系统,那么低压等离子技术和常压等离子技术直接有哪些区别呢?

 

低压等离子技术

 

对于低压等离子技术,气体在真空中通过获取能量从而被激发。 等离子由高能离子、高能电子以及其它反应粒子组成。由此,等离子材料表面可以被有效 的改变。

 

其效应可以分为以下三类 :

 

·微砂喷射:材料表面通过离子轰击被消减

·化学反应:材料表面与离子化的气体产生化学反应

·紫外线放射:紫外射线将长链破化合物分解

 

通过改变工艺参数,如:压力、发生器功率、工艺时间、气体流量和气体组成,可以获得不同的等离子效果。如此便可在一道工序内完成多种工艺效果。

 

常压等离子技术

 

对于常压等离子技术,等离子的生成是由于气体在大气压力下通过高电压 而被激发。 等离子由高压气体驱动从喷嘴中一同喷出。

 

其等离子效应可以 分为以下两种:

 

·表面激活及精密清洗 通过等离子束中所携带的反应粒子实现

 

·此外松散附着于材料表面的微尘将由高压加速的激活气流带走。

 

通过改变工艺参数,如:处理速度、喷嘴与材料表面的距离,可以获得不同的等离子处理结果。

 

 

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