等离子蚀刻机：等离子蚀刻机的结构

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。


等离子蚀刻机结构：

ICP设备主要包括四个部分：预真空室，蚀刻室，供气系统和真空系统。

（1）预真空室

预真空室的功能是确保蚀刻室保持在设定的真空度，并且不受外部环境（例如：灰尘，水蒸气）的影响，并将危险气体与洁净室隔离 。 它由盖板，机械手，传动机构，隔离门等组成。


（2）蚀刻腔体

蚀刻腔体是ICP蚀刻设备的核心结构，它直接影响蚀刻速率，蚀刻的垂直度和粗糙度。 蚀刻室的主要部件是：上电极，ICP射频单元，RF射频单元，下电极系统，温度控制系统等。


（3）供气系统

供气系统将各种蚀刻气体输送到蚀刻室，并通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）控制气体的流速和流量。供气系统由气源瓶，供气管道，控制系统，混合装置等组成。


（4）真空系统

真空系统有两套，分别用于预真空室和蚀刻室。预真空室通过机械泵单独排空。 仅当预真空室的真空度达到设定值时，隔离门才能打开以转移薄膜。 刻蚀室的真空由机械泵和分子泵提供，刻蚀室的反应产生的气体也由真空系统抽空。

用于等离子体蚀刻的ICP源通常是平面结构，易于获得可调节的等离子体密度和等离子体均匀性分布。 此外，平面ICP源使用的介电窗也易于加工。 石英和陶瓷是常用的介电窗材料。

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