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等离子蚀刻机:等离子蚀刻机的简单介绍

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等离子蚀刻机:等离子蚀刻机的简单介绍

  • 分类:行业新闻
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  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-25 14:21

等离子蚀刻机:等离子蚀刻机的简单介绍


等离子蚀刻机也称为等离子刻蚀机,等离子平面蚀刻机,等离子体蚀刻机,等离子表面处理仪,等离子清洁系统等。等离子蚀刻是干法蚀刻的较常见形式。 原理是暴露于电子区域的气体形成等离子体。 产生的离子化气体和由释放高能电子组成的气体形成等离子体或离子,当离子化的气体原子在电场作用下加速时,它们将释放出足够的力,以使材料与表面排出力紧密结合,或者蚀刻表面。 在某种程度上,等离子清洗实质上是等离子蚀刻的温和情况。干法刻蚀设备包括反应室,电源和真空部分。工件被送入真空泵抽空的反应室中。引入气体并与等离子体交换。等离子体在工件表面上发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体蚀刻工艺实际上是反应性等离子体工艺。是在反应室内安装架子形式。 这种设计是灵活的。 用户可以卸下架子,以配置适当的等离子体蚀刻方法:反应性等离子体,顺流等离子体,直接等离子体。




等离子蚀刻机



原理:

感应耦合等离子体刻蚀法是化学和物理过程相结合的结果。其基本原理是,在真空和低压下,由ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,并且一定比例的混合蚀刻气体耦合到辉光放电,从而产生高密度等离子体。RF射频作用在下部电极上。接下来,这些等离子体轰击基板的表面,破坏基板图案区域中半导体材料的化学键,并随着蚀刻气体产生挥发性物质,这些挥发性物质以以下形式与基板分离气体,并被抽离真空管线。

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